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更平、更薄、更可靠为技术导向,深耕半导体衬底材料、晶圆制造、半导体器件、先进封装、MEMS等领域的超精密平面加工技术,形成了技术领先,性能优越,工艺稳定的核心技术优势。
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北京特思迪半导体设备有限公司,是一家拥有自主知识产权的国家高新技术企业,专注于半导体领域超精密平面加工设备的研发、生产和销售。以“引领半导体技术进步,助力客户发展”为使命,致力于成为全球技术领先的半导体设备制造企业。 特思迪以更平、更薄、更可靠为技术导向,深耕半导体衬底材料、晶圆制造、半导体器件、先进封装、MEMS等领域的超精密平面加工技术,形成了技术领先,性能优越,工艺稳定的核心技术优势,可提供...
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技术领先专注于半导体领域超精密平面加工设备的研发、生产和销售。
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优质服务提供减薄机、抛光机、CMP的系统解决方案和工艺设备。
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减薄机厂家的发展趋势
在探讨减薄机厂家的发展趋势时,我们不得不从多个维度进行深入分析,包括技术革新、市场需求、竞争格局、政策环境以及全球化布局等方面。减薄机作为半导体制造、光伏产...
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精密研磨抛光机操作过程疑难问题
精密研磨抛光机操作过程疑难问题精密研磨抛光机的关键在于使用较大的抛光速度,去除管件表面的危害层,保证抛光的目的。采用较粗的金属复合材料,可迅速去除危害层,采...
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衬底减薄机、衬底抛光机、衬底cmp抛光机、晶圆刷洗机工艺难点
衬底减薄机:难点一:碳化硅断裂韧性低:碳化硅材料在减薄过程中易开裂,导致晶片的减薄非常困难。难点二:优化单面研磨技术:为防止碎片,优化单面研磨技术是未来薄化...
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什么是CMP化学抛光机
CMP抛光设备,全称为化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing)设备,是半导体制造中的关键设备之一。以下是关于CMP抛光设备...
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